ペリクルとは、LSI（大規模集積回路）やFPD（フラットパネルディスプレイ）製造時の露光工程において使用されるフォトマスク用防塵カバーです。

LSIやFPDの製造は、クリーンルーム内で行われますが、クリーンルーム内にもわずかなゴミや埃が存在します。露光時に、こうしたゴミや埃がフォトマスク上に付着すると、レジストに異常な結像が発生し、欠陥品となります。

フォトマスクにペリクルを取り付けることにより、ゴミや埃が付着した場合も、露光時の焦点をずらすことで異常結像による不良が発生しません。